НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ
ЯДЕРНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ
Московский инженерно-физический институт
Факультет «Автоматики и электроники»
Кафедра «Микро- и наноэлектроники»
Флеш-память Samsung
Дисциплина: Компьютерный практикум 16
Подготовили: студенты группы А04-09
Жолондковский В.В.
Дзагоев В.А.
Преподаватель: доцент Лапшинский В. А.
Москва 2016-05-22
Версия 2.0
Аннотация
Данная работа посвящена моделированию количества транзисторов и их размеров «на борту» запоминающих устройств от фирмы-производтеля Samusng от года выпуска. Выполнено прогнозирование дальнейшего увеличения этой характеристика до 2020 года
Работа содержит: 2 формулы, 3 таблицы,3 рисунка.
Ключевые слова
Техпроцесс, транзистор, нанометр, флеш-память, запоминающее устройство, корреляционно-регрессивный анализ, коэффициент корреляции.
Введение
Компания Samsung является одним из ведущих мировых производителей техники разработчиком новейших технологий. Одна из областей деятельности этой корпорации — полупроводниковые технологии, которыми занимается отдел компании Samsung Electronics Co., Ltd, а именно Device Solution(отдел полупроводниковых технологий и ЖК-дисплеев). Первое запоминающее устройство формата флеш -карты было представлено на IEEE уже в 1984 году в Сан-Франциско. Идея создания технологии принадлежит японскому ученному Фуджио Масуоко, который работал в фирме Toshiba [1].
В 1999 году израильская компания М-систем выпускает флешку, которую можно было носить в кармане. Объем ее тогда составлял всего 8 мб, однако это уже было в 4 раза больше, чем вмещалось на дискету. К тому же, новаторское изобретение не требовало специального программного обеспечения и работало без установки драйверов. Изобретение принадлежит нашему соотечественнику, Семену Лицину, который на тот момент работал в Тель-Авиве. И через некоторое время в игру включился и Samsung.
Задачей работы является моделирование это: корреляционно-регрессивный анализ развития техпроцесса в транзисторах, используемых в запоминающих устройствах, а также составление прогноза дальнейшего изменения этой характеристики
Количество транзисторов в устройстве
Принцип работы полупроводниковой технологии флеш-памяти основан на изменении и регистрации электрического заряда в изолированной области («кармане») полупроводниковой структуры. Изменение заряда («запись» и «стирание») производится приложением между затвором и истоком большого потенциала, чтобы напряженность электрического поля в тонком диэлектрике между каналом транзистора и карманом оказалась достаточна для возникновения туннельного эффекта. Для усиления эффекта туннелирования электронов в карман при записи применяется небольшое ускорение электронов путём пропускания тока через канал полевого транзистора (явление инжекции горячих носителей). Чтение выполняется полевым транзистором, для которого карман выполняет функцию затвора . Потенциал плавающего затвора изменяет пороговые характеристики транзистора, что и регистрируется цепями чтения. Эта конструкция снабжается элементами, которые позволяют ей работать в большом массиве таких же ячеек. Существует два типа организации: NOR и NAND. Конструкция NOR использует классическую двумерную матрицу проводников, в которой на пересечении строк и столбцов установлено по одной ячейке. Конструкция NAND — трёхмерный массив. В основе та же самая матрица, что и в NOR, но вместо одного транзистора в каждом пересечении устанавливается столбец из последовательно включенных ячеек [2].
В данной работе был применен корреляционно - регрессивный анализ для рассмотрения развития техпроцесса.
Корреляционно - регрессивный анализ
Основным пунктом корреляционно-регрессивного анализа является расчет коэффициента корреляции Пирсона (по таблице 1) [3,4]. Для расчета использовалась формула (Формула 1, 2).
Формула 1
Формула 2
При помощи онлайн - калькулятора произведен анализ:
Коэффициент корреляции (r) равен -0.939
Связь между исследуемыми признаками - обратная, теснота (сила) связи по шкале Чеддока - весьма высокая
Число степеней свободы (f) составляет 9
t-критерий Стьюдента равен -8.226
Критическое значение t-критерия Стьюдента при данном числе степеней свободы составляет 2.262. tнабл < tкрит, зависимость признаков статистически не значима (p>0,05)Коэффициент детерминации r2 равен 0.883 (факторный признак x определяет 88.3% дисперсии зависимого признака y)
Средняя ошибка аппроксимации (характеризует адекватность регрессионной модели) составляет 52.6%
Таблица 1
Год
|
Техпроцесс (нм)
|
2000
|
180
|
2002
|
150
|
2004
|
90
|
2006
|
70-56
|
2010
|
35-32
|
2011
|
27
|
2012
|
21
|
2013
|
20
|
2014
|
19-16
|
2015
|
12
|
2016
|
12
|
В таблице 1 представлена информация, касательно размера транзисторов до сегодняшнего дня.
Соответственно, сделав следующие приближения:
Транзистор — квадрат, с ребром, размера, указанного в таблице;
Средний размер флеш-карты равен размеру спичечного коробка, часть содержащая память — около 25% от размера флешки. Можно сделать предположения о количестве транзисторов внутри флеш- накопителя.
Прогноз
Таблица 2
Год
|
Техпроцесс (нм)
|
2000
|
180
|
2002
|
150
|
2004
|
90
|
2006
|
70-56
|
2010
|
35-32
|
2011
|
27
|
2012
|
21
|
2013
|
20
|
2014
|
19-16
|
2015
|
12
|
2016
|
12
|
2017
|
12
|
2018
|
10
|
2020
|
9
|
Рис. 2
Прогноз основывается на том, что ведутся разработки по созданию запоминающего устройства, несущего до 250 с лишним эксобайтов памяти [5]. Компания Samsung является одним из лидеров на рынке полупроводников, и поэтому именно они могут претендовать на такие результаты, с учетом их вложений в полупроводниковую электронику, а также уже имеющихся достижений.
Ниже, представлена таблица 2 и график 3, отражающие именно количество транзисторов в сделанном ранее приближении
Таблица 3
Год
|
Количество
|
2000
|
694444
|
2002
|
833333
|
2004
|
1388888
|
2006
|
1785714
|
2010
|
3571428
|
2011
|
4629629
|
2012
|
5952380
|
2013
|
6250000
|
2014
|
6578947
|
2015
|
1E+07
|
2016
|
1E+07
|
2017
|
1E+07
|
2018
|
1,3E+07
|
2020
|
1,4E+07
|
Данная таблица сделана в табличном процессоре Microsoft Excel, именно поэтому данные представлены в таком формате (экспоненциальном виде).
По данному прогнозу (таблица 3) можно заметить, что рост количества транзисторов подчиняется закону Мура, так как каждые два года (что и будет являться периодом удвоения) количество транзисторов растет примерно вдвое, но до 2014 года, поскольку далее с заморозкой требований и с улучшением быстродействия при сохраняющемся размере, для удовлетворения потребностей современной электроники такой рост количества транзисторов на схеме был бы избыточен.
Рис.3
На рисунке 3 изображен прогноз роста транзисторов на БИС. На нем также показана кривая, демонстрирующая экспоненциальный рост количества транзисторов, которая примерно совпадает с реальным ростом количества транзисторов в схеме [6].
Заключение
Полученный прогноз представляется весьма правдоподобным, однако результат анализа исходных данных говорит, что с математической точки зрения его нельзя считать в достаточной степени точным. Если рассматривать количество транзисторов с точки зрения закона Мура, то он выполняется, но с точностью, оставляющей желать лучшего.
Источники информации
- http://comp.web-3.ru/peref/portablestorage/?act=full&id_article=10422 — История создания флешки.
- https://ru.wikipedia.org/wiki/%D0%A4%D0%BB%D0%B5%D1%88-%D0%BF%D0%B0%D0%BC%D1%8F%D1%82%D1%8C —Статья в википедии о флеш-памяти
- http://medstatistic.ru/calculators/calccorrelation.html — Онлайн калькулятор.
- http://www.statistica.ru/theory/koeffitsient-korrelyatsii/ — Корреляционный анализ.
- http://www.3dnews.ru/921243 — Новости о 250 эксобайтной флешки
- https://ru.wikipedia.org/wiki/%D0%97%D0%B0%D0%BA%D0%BE%D0%BD_%D0%9C%D1%83%D1%80%D0%B0 — статья о законе Мура на википедии.
|